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        鍍膜目的

薄膜技術的主要目的是以經濟,有效的方法改變材料表面的形態、成分和組織結構。使材料表面獲得新的復合性能,使其達到下列目的:

1.提高材料抵御環境能力。如抗酸、鹼、耐腐蝕、抗沾黏、抗污等功能。

2.賦與材料表面具有新的機械功能,如耐磨耗、提高硬度等功能。

3.裝飾性功能,使產品外觀豪華、尊貴、细腻、提升產品質感,突現產品價值。

4.特殊功能,包括聲、電、光、磁等特殊物理或化學性能。



真空系統

         圖片1.JPG                    

                     ◆粗抽PUMP

                    - RP+BP   (油式迴轉pump +魯式pump)

                       - Dry pump + BP   (乾式pump)

                     高真空PUMP

                    - Turbo Molecular pump   (渦輪分子pump)

                      - Cryo pump   (冷凍pump)

                      - Diffusion Pump   (擴散pump)



        真空蒸鍍

         真空蒸發鍍膜(簡稱蒸鍍),是在真空條件下用蒸發源加熱欲鍍膜的材料使之汽化,蒸發材料的原子及分子從蒸發源圖片3.jpg表面逸

         出,直接射向基板並在基板上沉積形成固態薄膜。 

 

        蒸鍍源依其材料不同分為熱阻式及電子槍蒸鍍。熔點較低的材料可用熱阻式蒸鍍,其設備成本較低。熔點較高的材料只能

        以電子槍蒸鍍,其設備成本較高,但鍍膜材料較不受限制。


             

 


        真空濺鍍 

         真空濺射鍍膜(簡稱濺鍍),是在真空條件下將欲鍍膜的材料做成靶材放置在陰極的濺鍍靶源上,再通入隋性氣體(

         常是氬氣),氣體受電場作用解離形成了由離子、電子和中性粒子組成的氣體電漿。其中的正離子受電場的加速及

         陰極的吸引,加速撞擊靶材表面,靶材表面的原子、分子與入射的高能粒子交換動能後從靶材表面飛濺出往工件方

         向沉積凝聚而形成薄膜。

圖片2.jpg



 

 

 

 

            真空蒸鍍及濺鍍比較   


 

真空蒸鍍

 
 

真空濺鍍

 
 

產能

 
 

 
 

 
 

設備成本

 
 

 
 

 
 

薄膜沉積速度

 
 

 
 

 
 

薄膜緻密性

 
 

 
 

 
 

薄膜均勻性

 
 

 
 

 
 

薄膜中的氣孔

 
 

 
 

 
 

工藝重復性

 
 

較差

 
 

較佳

 
 

工件尺寸

 
 

無法生產大面積工件

 
 

可大面積大量生產

 
 

製程種類

 
 

 
 

 

圖片4.jpg